キヤノン-もみ合い ナノインプリント向け量産用マスクレプリカ製造装置を製品化

2017/02/23(木) 14:16
 キヤノン<7751.T>がもみ合い。同社は2月23日13時に、世界で初めて、ナノインプリント技術を用いた半導体製造装置用のマスクを低コストで複製する、量産用マスクレプリカ製造装置“FPA-1100NR2”を製品化したと発表した。  ナノインプリント用マスクのリーディングサプライヤーである大日本印刷<7912.T>グループに納入する。ナノインプリント技術を応用することにより、高価なマスターマスクのパターンを忠実かつ短時間にマスク部材に転写することができ、高い生産性でレプリカマスクを製作することが可能。これにより、ナノインプリント用マスクサプライヤーの生産現場において、マスクの生産性を飛躍的に向上させ、ナノインプリント技術を用いた半導体デバイスの製造コストを大幅に削減することで、先端リソグラフィプロセスにおけるCoO低減が図られるとした。
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