オプトラン-続落 ALD用いた新型装置の開発完了
オプトラン<6235.T>が変わらず挟み続落。同社は23日に、ALD(原子層堆積法)を用いた新型装置の開発を完了したと発表した。
特徴としては、レンズ局面や3D構造物などの複雑な表面へ均一・極薄・低温成膜をすることができるという。また、プラズマ原子層堆積装置で従来課題となっていた大量成膜を実現するとともに、原料供給やプラズマ照射の最適化により1回あたりの成膜時間を短縮し、顧客の生産効率向上にも貢献する。
この装置は、スマホなどの高機能カメラレンズ反射防止膜やリチウムイオン電池・Micro LEDの保護膜などの成膜での利用が期待されるとしている。しかし、株価へのポジティブな影響は限定的だ。
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