大日本印刷-4日ぶり反発 5ナノメートル対応のEUVリソグラフィ向けフォトマスクプロセス開発
大日本印刷<7912.T>が4日ぶり反発。同社は10日に、マルチ電子ビームを使うマスク描画装置を利用し、現在の半導体製造の最先端プロセスであるEUV(極端紫外線)リソグラフィに対応する、5ナノメートルプロセス相当のフォトマスク製造プロセスを開発したと発表した。
今後、国内外の半導体メーカーのほか、半導体開発コンソーシアム、製造装置メーカー、材料メーカーなどへEUVリソグラフィ向けフォトマスクを提供するとともに、EUVリソグラフィの周辺技術開発を支援し、2023年には年間60億円の売り上げを目指すとしている。
関連ニュース
日本株の最新ニュース
関連コンテンツ