図研-続伸 米Arasとパートナーシップ締結 設計から製造まで一括管理
図研<6947.T>が続伸。同社は25日、エンタープライズPLMソフトウェアベンダーの米Arasと、電気・電子設計データを含む企業内のさまざまな設計領域を横断し、設計から製造までのプロセスを管理する新アプローチを協調して開発するためのパートナーシップを締結したと発表した。
両社は各設計領域でのwork-in-process(設計途中)のライブラリや設計データの管理システムをエンタープライズPLMプラットフォームに連携する機能の提供を目指す。これにより、従来のエンタープライズPLMで参照用として製品ごとに「zip圧縮ファイル」の形式で保持することしかできなかったIPブロックや電子部品レベルの情報を、企業全体での製品横断的なトレーサビリティーが随時確保できる状態で管理することが可能となる。今後の業績への貢献が期待され、買いが入っている。
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