IPO銘柄詳細
ニューフレアテクノロジー
| コード | 市場 | 業種 | 売買単位 | 注目度 |
|---|---|---|---|---|
| 6256 | JASDAQ | 1株 | B |
スケジュール
| スケジュール | |
|---|---|
| 仮条件決定 | 2007/04/06 |
| ブックビルディング期間 | 2007/04/09 - 04/13 |
| 公開価格決定 | 2007/04/16 |
| 申込期間 | 2007/04/17 - 04/20 |
| 払込期日 | 2007/04/24 |
| 上場日 | 2007/04/25 |
| 価格情報 | |
|---|---|
| 想定価格 | 215,000円 |
| 仮条件 | 210,000 - 220,000円 |
| 公開価格 | 220,000円 |
| 初値予想 | 260,000円 |
| 初値 | 260,000円 |
- スケジュールは上場企業都合により変更になる場合があります。
基本情報
| 代表者名 | 井入正博／S23年生 |
|---|---|
| 本店所在地 | 静岡県沼津市 |
| 設立年 | H14年 |
| 従業員数 | 331人 (2007/02/28現在) |
| 事業内容 | 半導体製造装置の開発、製造、販売 |
| URL | http://www.nuflare.co.jp/ |
| 株主数 | 9人 （目論見書より） |
| 資本金 | 4,500,000,000円 (2007/03/23現在) |
| 上場時発行済株数 | 100,000株 |
| 公開株数 | 21,000株（公募10,000株、売り出し8,500株、オーバーアロットメント2,500株） |
| 調達資金使途 | 設備投資 |
| 連結会社 | なし |
シンジケート
公開株数18,500株（別に2,500株）
| 種別 | 証券会社名 | 株数 | 比率 |
|---|---|---|---|
| 主幹事証券 | 野村 | 13,875 | 75.00% |
| 引受証券 | 日興シティグループ | 1,480 | 8.00% |
| 引受証券 | 大和SMBC | 740 | 4.00% |
| 引受証券 | みずほ | 740 | 4.00% |
| 引受証券 | 三菱ＵＦＪモルガン・スタンレー | 740 | 4.00% |
| 引受証券 | 静銀ティーエム | 740 | 4.00% |
| 引受証券 | マネックス | 185 | 1.00% |
大株主（潜在株式なし）
| 大株主名 | 摘要 | 株数 | 比率 |
|---|---|---|---|
| 東芝機械 | 親会社 | 50,989 | 56.65% |
| 東芝 | その他の関係会社 | 35,001 | 38.89% |
| NEC | 特別利害関係者等 | 4,000 | 4.44% |
| 井入正博 | 代表取締役社長 | 3 | 0.00% |
| 山下数高 | 常務取締役 | 2 | 0.00% |
| 小川洋司 | 常務取締役 | 2 | 0.00% |
| 水野国雄 | 取締役 | 1 | 0.00% |
| 吉川良一 | 取締役 | 1 | 0.00% |
| 開俊一 | 取締役 | 1 | 0.00% |
業績動向（単位：百万円）
| 決算期 | 種別 | 売上高 | 営業利益 | 経常利益 | 純利益 |
|---|---|---|---|---|---|
| 2008/03 | 単独予想 | 27,673 | - | 2,937 | 1,682 |
| 2007/03 | 単独見込 | 23,078 | - | 1,778 | 1,063 |
| 2006/03 | 単独実績 | 17,083 | - | 1,532 | 904 |
| 2005/03 | 単独実績 | 14,315 | - | 1,250 | 743 |
売上高
営業利益
経常利益
純利益
1株あたりの数値（単位：円）
| 決算期 | 種別 | EPS | BPS | 配当 |
|---|---|---|---|---|
| 2007/03 | 単独見込 | - | - | - |
| 2008/03 | 単独予想 | 16,822.00 | - | - |
参考類似企業
事業詳細
半導体製造装置の専業メーカー。電子ビームマスク描画装置を主力に、エピタキシャル成長装置、マスク検査装置の3製品を中心に開発・製造・販売を展開している。1976年12月に東芝から東芝機械に半導体製造装置事業の技術が移管され、2002年8月に東芝機械より分社型分割により設立された。
(1)電子ビームマスク描画装置
電子ビームによる描画制御技術をコア技術として高密度集積回路(LSI)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置。
(2)エピタキシャル成長装置
ガス制御装置をコア技術として、シリコンウエハー上にシリコン単結晶を成長させるための装置。
(3)マスク検査装置
フォトマスクを高速に検査する装置で、深紫外レーザーを光源とした光学技術をコアとしている。
2006年9月中間期の売上高構成比は、電子ビームマスク描画装置93.3％、エピタキシャル成長装置6.4％、マスク検査装置0.3％。海外売上比率は71.0％。
主な販売先は米Intel Corp.12.7％、独Advanced Mask Technology Center Gmbh & Co. KG 12.6％、Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. (台湾TSMC) 12.4％、東芝ファイナンス12.4％、韓サムスン電子12.2％、米Photronics, Inc. 10.1％。
(1)電子ビームマスク描画装置
電子ビームによる描画制御技術をコア技術として高密度集積回路(LSI)の製造工程における回路原版(フォトマスク)を描画・製造するための装置。
(2)エピタキシャル成長装置
ガス制御装置をコア技術として、シリコンウエハー上にシリコン単結晶を成長させるための装置。
(3)マスク検査装置
フォトマスクを高速に検査する装置で、深紫外レーザーを光源とした光学技術をコアとしている。
2006年9月中間期の売上高構成比は、電子ビームマスク描画装置93.3％、エピタキシャル成長装置6.4％、マスク検査装置0.3％。海外売上比率は71.0％。
主な販売先は米Intel Corp.12.7％、独Advanced Mask Technology Center Gmbh & Co. KG 12.6％、Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. (台湾TSMC) 12.4％、東芝ファイナンス12.4％、韓サムスン電子12.2％、米Photronics, Inc. 10.1％。
コメント
仮条件分析
会員サービス「トレーダーズ・プレミアム」でご覧ください。
公開価格分析
会員サービス「トレーダーズ・プレミアム」でご覧ください。
初値予想
会員サービス「トレーダーズ・プレミアム」でご覧ください。
初値分析
会員サービス「トレーダーズ・プレミアム」でご覧ください。
